科研用小型等離子蝕刻機10L

等離子清洗機人氣：1556 發表時間：2021-04-21 【小中大】

等離子體是物質的一種存在狀態，通常物質以固態、液態、氣態三種狀態存在，但在一些特殊情況下可以以第四種狀態存在。等離子蝕刻機在科學研究各方面已經取得了廣泛的運用，涉及光學、光電子學、電子學、材料科學、生命科學、高分子科學、生物醫學、微觀流體學等領域。

科研用等離子蝕刻機主要用于以下實驗：

1、材料清潔和活化
2、等離子涂鍍聚合
3、有機物去除
4、鍵合
5、等離子去膠
6、金屬還原
7、表面刻蝕
8、材料老化實驗
9、改變親水性/疏水性
10、灰化表面有機層

等離子刻蝕機技術規格參數：
-腔體材料：不銹鋼/石英艙體
-工作氣路：兩路，可以選配MFC控制
-射頻頻率：40KHz
-射頻功率：0-200W/300W可選，可調
-控制系統：按鈕+單排LED顯示，實時顯示和檢測艙內真空度值
-時間范圍：0—99分59秒連續可調
-工作壓力：樣品倉內200Pa以內根據進氣量自動調節
-工作氣體：空氣、氧氣、氮氫混合氣、氬氣、氮氣及其他惰性氣體與混合氣體均可
-進氣壓力：空氣：常壓
-連接氣體鋼瓶：0.1-0.3Mpa
-工作模式：手動模式和程序化自動模式
-真空泵：抽速：1升到5升每秒
-輸入電源：~220V／50Hz

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